Opis

• Tytuł:
  Full field nanoimprint on mask aligners using substrate conformal imprint lithography technique
• Twórca:
  Ji, Ran
• Współtwórca:
  Krüger, A.;
  Hornung, M.;
  Verschuuren, M.;
  Laar, R. van de;
  Eekelen, J. van
• Dostępność obiektu:
  Dostęp otwarty
• Prawa:
  Publikacja udostępniona za zgodą wydawcy. Całość ani żadna z jej części nie może być przetwarzana ani wykorzystywana w celach komercyjnych
• Data:
  2009
• Język:
  angielski
• Relacja:
  Acta Physica Polonica. A. - Vol. 116, Supplement (2009), s. 187-189.
• Dostawca danych:
  Polona
• Czy mogę z tego obiektu skorzystać?:
  poproś o pozwolenie
• Rodzaj zawartości:
  pozostałe