Description

• Title:
  Full field nanoimprint on mask aligners using substrate conformal imprint lithography technique
• Creator:
  Ji, Ran
• Contributor:
  Krüger, A.;
  Hornung, M.;
  Verschuuren, M.;
  Laar, R. van de;
  Eekelen, J. van
• Object availability:
  free access
• Rights:
  Publikacja udostępniona za zgodą wydawcy. Całość ani żadna z jej części nie może być przetwarzana ani wykorzystywana w celach komercyjnych
• Date:
  2009
• Language:
  English
• Relation:
  Acta Physica Polonica. A. - Vol. 116, Supplement (2009), s. 187-189.
• Data provider:
  Polona
• Can I use it?:
  seek permission
• Type:
  other