Opis

• Tytuł:
  Metrology of Mo/Si multilayer mirrors at 13.5 nm with the use of a laser-produced plasma extreme ultraviolet (EUV) source based on a gas puff target
• Twórca:
  Rakowski, R.;
  Bartnik, A.;
  Fiedorowicz, H.;
  Jarocki, R.;
  Kostecki, J.;
  Krzywiński, J.;
  Mikołajczyk, J.;
  Pina, L.;
  Ryc, L.;
  Szczurek, M.;
  Ticha, H.;
  Wachulak, P.
• Współtwórca:
  Gaj, Miron. Redakcja;
  Wilk, Ireneusz. Redakcja
• Opis:
  Optica Applicata, Vol. 36, 2006, nr 4, s. 593-600
• Dostępność obiektu:
  Dostęp otwarty
• Prawa:
  Wszystkie prawa zastrzeżone (Copyright);
  Dla wszystkich w zakresie dozwolonego użytku
• Data:
  2006.12.31;
  2006
• Typ:
  artykuł
• Język:
  angielski
• Źródło:
  <sygn. PWr A3481II>;
  http://aleph.bg.pwr.wroc.pl/F/?func=find-b&request=000122307+&find_code=SYS&adjacent=N&local_base=TUR&x=64&y=13&filter_code_1=WLN&filter_request_1=&filter_code_2=WYR&filter_request_2=&filter_code_3=WYR&filter_request_3=&filter_code_4=WFT&filter_request_4=&filter_code_5=WSB&filter_request_5= ;http://opticaapplicata.pwr.edu.pl
• Wydawca:
  Oficyna Wydawnicza Politechniki Wrocławskiej
• Relacja:
  Optica Applicata;
  Optica Applicata, Vol. 36, 2006;
  Optica Applicata, Vol. 36, 2006, nr 4;
  Politechnika Wrocławska. Wydział Podstawowych Problemów Techniki
• Temat i słowa kluczowe:
  optyka;
  laser-produced plasma extreme ultraviolet (EUV) source;
  gas puff target;
  Mo/Si mirrors;
  EUV spectroscopy
• Dostawca danych:
  Dolnośląska Biblioteka Cyfrowa
• Czy mogę z tego obiektu skorzystać?:
  poproś o pozwolenie
• Rodzaj zawartości:
  obrazy