Szczegóły obiektu: Evaluation of electrical properties of Eu and Pd-doped titanium dioxide thin films deposited on silicon = Badanie właściwości elektrycznych cienkich warstw TiO2 domieszkowanych Eu i Pd naniesionych na podłoża krzemowe

Używamy plików cookies, by nieustannie zwiększać komfort przeglądania naszej strony internetowej. W celu uzyskania szczegółowych informacji, prosimy o zapoznanie się z dokumentem Polityki Prywatności